उत्पाद परिचय

Ta10W प्लेट का अनुप्रयोग मूल्य इतना अधिक क्यों है?

ऐसा इसलिए है क्योंकि इसकी संरचना डिजाइन और उन्नत तैयारी प्रक्रिया न केवल व्यक्तिगत धातुओं के फायदे बरकरार रखती है, बल्कि मिश्र धातुओं के माध्यम से प्रदर्शन में सफलता भी हासिल करती है।

संरचना के संदर्भ में, इस उत्पाद की टैंटलम सामग्री 89.5% से अधिक या उसके बराबर है, और टंगस्टन सामग्री को 9.5% ~10.5% पर सख्ती से नियंत्रित किया जाता है। ठोस समाधान सुदृढ़ीकरण तंत्र के माध्यम से सामग्री की उच्च तापमान शक्ति और कठोरता में काफी सुधार होता है। साथ ही, सेमीकंडक्टर उपकरणों के प्रदर्शन पर प्रतिकूल प्रभाव डालने वाली अशुद्धियों से बचने के लिए ऑक्सीजन (0.03% से कम या उसके बराबर), कार्बन (0.02% से कम या उसके बराबर), नाइट्रोजन (0.01% से कम या उसके बराबर) जैसी अशुद्धियों की सामग्री को सख्ती से नियंत्रित किया जाता है।

प्रौद्योगिकी के संदर्भ में, गैस की अशुद्धियों को दूर करने के लिए वैक्यूम आर्क मेल्टिंग तकनीक का उपयोग किया जाता है, और प्लेट की मोटाई की एकरूपता सुनिश्चित करने के लिए मल्टी{0}}पास प्रिसिजन रोलिंग का उपयोग किया जाता है। अंत में, अनाज को वैक्यूम एनीलिंग उपचार के माध्यम से परिष्कृत किया जाता है, जो उच्च शक्ति और अच्छी प्लास्टिक कठोरता को जोड़ता है। बढ़ाव 20% से अधिक तक पहुंच सकता है और भंगुर फ्रैक्चर का खतरा नहीं है।

मुख्य प्रदर्शन के संदर्भ में, Ta10W प्लेट के कई फायदे हैं: उच्च तापमान स्थिरता के संदर्भ में, पिघलने बिंदु 3020 डिग्री तक है, और यह अभी भी 1600 डिग्री के उच्च तापमान वातावरण में संरचनात्मक स्थिरता बनाए रख सकता है। इसमें उत्कृष्ट रेंगना प्रतिरोध है और यह लंबे समय तक सेमीकंडक्टर निर्माण में उच्च तापमान प्रक्रिया भार का सामना कर सकता है; संक्षारण प्रतिरोध के संदर्भ में, यह हाइड्रोक्लोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड, एक्वा रेजिया और कार्बनिक एसिड जैसे संक्षारक मीडिया के प्रति मजबूत सहनशीलता दिखाता है जो अर्धचालक प्रक्रियाओं में आम हैं; प्रसंस्करण प्रदर्शन के संदर्भ में, इसमें अच्छा ठंडा कार्य प्रदर्शन है, और सतह खुरदरापन Ra 0.8μm पर नियंत्रित होता है। निम्नलिखित, अर्धचालक उपकरणों की सटीक असेंबली आवश्यकताओं को पूरा करते हैं। इसके अलावा, इसका उच्च घनत्व (16.6~16.8 ग्राम/सेमी³) इसे उत्कृष्ट विकिरण परिरक्षण क्षमता प्रदान करता है, और इसकी कम न्यूट्रॉन अवशोषण विशेषताएँ इसे अर्धचालक आयन आरोपण प्रक्रिया में अद्वितीय लाभ भी देती हैं।

उत्पाद विवरण

प्रोडक्ट का नाम	Ta10w टैंटलम प्लेट
घनत्व	16.6~16.8 ग्राम/सेमी³
गलनांक	3000~3080 डिग्री
लंबाई	50~3000मिमी, अनुकूलित
चौड़ाई	50~800मिमी, अनुकूलित
मोटाई	0.5~20मिमी, अनुकूलित
मोटाई सहनशीलता	±0.05मिमी
तन्यता ताकत	550MPa से अधिक या उसके बराबर
नम्य होने की क्षमता	379MPa से अधिक या इसके बराबर
बढ़ाव	20% से अधिक या उसके बराबर

उत्पाद अनुप्रयोग

अपने व्यापक प्रदर्शन लाभों के साथ, Ta10W प्लेटों के सेमीकंडक्टर उद्योग में व्यापक और महत्वपूर्ण अनुप्रयोग हैं, जो वेफर विनिर्माण से लेकर डिवाइस पैकेजिंग तक कई मुख्य लिंक को कवर करते हैं:

स्पटरिंग लक्ष्य क्षेत्र

अर्धचालक पतली फिल्म जमाव के लिए मुख्य सामग्री के रूप में, Ta10W प्लेटों को गोल (व्यास 20 ~ 400 मिमी) या वर्गाकार (चौड़ाई 10 ~ 1000 मिमी) स्पटरिंग लक्ष्यों में संसाधित किया जा सकता है, जिनका उपयोग अर्धचालक उपकरणों में बाधा परतों और इलेक्ट्रोड परतों जैसी प्रमुख फिल्मों को तैयार करने के लिए किया जाता है। इसकी उच्च घनत्व विशेषताएँ स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान पर्याप्त परमाणु गतिज ऊर्जा सुनिश्चित करती हैं, और गठित फिल्म सघन और दोष मुक्त होती है; इसकी उत्कृष्ट विद्युत और तापीय चालकता स्पटरिंग प्रक्रिया की स्थिरता सुनिश्चित करती है और लक्ष्य के अधिक गर्म होने और टूटने के जोखिम को कम करती है; इसकी उच्च शुद्धता और कम अशुद्धता सामग्री फिल्म संदूषण से बचाती है, अर्धचालक उपकरणों के विद्युत प्रदर्शन और विश्वसनीयता में सुधार करती है, और लॉजिक चिप्स, मेमोरी चिप्स, पावर अर्धचालक और अन्य उत्पादों के निर्माण में व्यापक रूप से उपयोग की जाती है।

उच्च तापमान प्रक्रिया घटक

आयन इम्प्लांटेशन और सेमीकंडक्टर वेफर्स के उच्च तापमान एनीलिंग जैसी प्रक्रियाओं में, Ta10W प्लेटों का उपयोग क्रूसिबल, नाव, हीटिंग तत्व ब्रैकेट और अन्य घटकों के निर्माण के लिए किया जाता है। यह अभी भी 3000 डिग्री से अधिक उच्च तापमान वाले वातावरण में संरचनात्मक स्थिरता बनाए रख सकता है और उच्च तापमान के कारण नरम या विकृत नहीं होगा। इसमें मजबूत संक्षारण प्रतिरोध भी है और यह विभिन्न संक्षारक गैसों और रासायनिक अभिकर्मकों द्वारा नष्ट नहीं होगा, जिससे वेफर प्रसंस्करण की उपज दर में सुधार होगा। इसके अलावा, थर्मल विस्तार का इसका कम गुणांक घटकों को बार-बार उच्च और निम्न तापमान चक्रों के दौरान आयामी रूप से स्थिर रहने की अनुमति देता है, जिससे घटक सेवा जीवन का विस्तार होता है।

वैक्यूम और संक्षारक पर्यावरण घटक

सेमीकंडक्टर निर्माण ज्यादातर उच्च वैक्यूम और अत्यधिक संक्षारक वातावरण में किया जाता है। Ta10W प्लेटों का उपयोग वैक्यूम चैम्बर लाइनिंग, पाइप, वाल्व और सील जैसे प्रमुख घटकों के निर्माण के लिए किया जा सकता है। इसकी उत्कृष्ट वैक्यूम अनुकूलता और हवा की जकड़न प्रक्रिया वातावरण में उच्च वैक्यूम को प्रभावी ढंग से बनाए रख सकती है; हाइड्रोक्लोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड और एक्वा रेजिया जैसे संक्षारक मीडिया का सामना करने की इसकी क्षमता इसे गीली नक़्क़ाशी और सफाई जैसे प्रक्रिया उपकरणों में अपरिहार्य बनाती है। यह पारंपरिक संक्षारण प्रतिरोधी सामग्रियों को प्रतिस्थापित कर सकता है और उपकरण रखरखाव लागत और डाउनटाइम जोखिम को कम कर सकता है।