उत्पाद परिचय

हमारी पॉलिश की गई शुद्ध नाइओबियम प्लेट को गहराई से समझने के लिए {{1}प्रिसिजन कम्पोजिट पॉलिशिंग तकनीक की मूल प्रक्रिया से शुरुआत होनी चाहिए। शुद्ध नाइओबियम धातु में अत्यधिक लचीलापन और अपेक्षाकृत कम कठोरता होती है। यह भौतिक गुण इसे पारंपरिक मशीनिंग और पीसने की प्रक्रिया में "कठोरता" और "पीड़ा" और सतह पर "संतरे के छिलके के प्रभाव" के लिए प्रवण बनाता है।
सबसे पहले, प्रारंभिक यांत्रिक पॉलिशिंग चरण में, हम शुद्ध नाइओबियम प्लेट को मैक्रोस्कोपिक रूप से चिकना करने के लिए लचीले पीसने वाले मीडिया के एक विशेष अनुपात और पीसने के दबाव के सटीक नियंत्रण का उपयोग करते हैं। इस कदम का उद्देश्य लचीले संपर्क के माध्यम से नरम नाइओबियम मैट्रिक्स को गंभीर यांत्रिक क्षति से बचाते हुए खुरदुरे रोलिंग चरण से बचे मैक्रोस्कोपिक चाकू के निशान और भारी ऑक्साइड परत को हटाना है। इसके बाद, उत्पाद कोर केमिकल मैकेनिकल पॉलिशिंग (सीएमपी) लिंक में प्रवेश करता है। इस प्रक्रिया में, हम रासायनिक नक़्क़ाशी और यांत्रिक घर्षण के सहक्रियात्मक प्रभाव का उपयोग करके परमाणु स्तर पर शुद्ध नाइओबियम प्लेटों की सतह को समतल करने के लिए एक अनुकूलित नैनोस्केल पॉलिशिंग समाधान का उपयोग करते हैं। यह प्रक्रिया नए तनाव एकाग्रता बिंदुओं को पेश किए बिना नाइओबियम प्लेट की सतह पर छोटे धक्कों को सटीक रूप से हटा सकती है।
सुपरकंडक्टिंग या सेमीकंडक्टर ग्रेड की अत्यधिक उच्च आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए, हम सर्वोत्तम इलेक्ट्रोपॉलिशिंग सेवा भी प्रदान कर सकते हैं। सतह के सूक्ष्म शिखर को अधिमानतः भंग करने के लिए सूक्ष्म सतह वर्तमान वितरण की अमानवीयता का लाभ उठाने के लिए शुद्ध नाइओबियम प्लेटों को एक विशिष्ट एनोडाइज्ड इलेक्ट्रोलाइट में रखा गया था। यह गैर-संपर्क पॉलिशिंग प्रक्रिया न केवल शुद्ध नाइओबियम प्लेट की सतह को दर्पण स्तर (मिरर फिनिश) तक पहुंचा सकती है, बल्कि सतह पर एक बेहद घनी और समान निष्क्रिय ऑक्साइड फिल्म (Nb₂O₅) भी बना सकती है। सुरक्षात्मक फिल्म की यह परत, जो पॉलिशिंग प्रक्रिया के दौरान स्वाभाविक रूप से बढ़ती है, मजबूत एसिड और क्षार संक्षारण का विरोध करने के लिए शुद्ध नाइओबियम प्लेट के लिए एक मजबूत ढाल है। इस कठोर पॉलिशिंग प्रक्रिया श्रृंखला के माध्यम से, हमारी शुद्ध नाइओबियम प्लेटों ने "औद्योगिक कच्चे माल" से "सटीक इंजीनियरिंग घटकों" में एक शानदार परिवर्तन हासिल किया है, यह सुनिश्चित करते हुए कि प्रत्येक वितरित नाइओबियम प्लेट सूक्ष्म संरचना में त्रुटिहीन है।
उत्पाद पैरामीटर
| प्रोडक्ट का नाम | पॉलिश की हुई शुद्ध नाइओबियम प्लेट |
| सामग्री | Nb1/Nb2/RO4200-1/RO4210-2 |
| पवित्रता | 99.95% से अधिक या उसके बराबर |
| मोटाई | 0.1मिमी - 50मिमी |
| लंबाई | 50 मिमी-3000 मिमी/अनुकूलित |
| चौड़ाई | 50-1000 मिमी/अनुकूलित |
| सहनशीलता को गाढ़ा करता है | ±0.01मिमी ~ ±0.05मिमी |
| समतलता | 2 मिमी/मीटर से कम या उसके बराबर |
| सतह का उपचार | पॉलिश |
| MOQ | 10 किग्रा |
| आरए | अनुकूलित |
| प्रमाण पत्र | ISO9001 |
उत्पाद लाभ
अल्ट्रा-निम्न सतह खुरदरापन नियंत्रण
साधारण नाइओबियम प्लेटों की सतह का खुरदरापन अक्सर Ra 1.6 या इससे भी अधिक होता है, लेकिन हमारी बहु-चरणीय पॉलिशिंग प्रक्रिया के माध्यम से, पॉलिश की गई शुद्ध नाइओबियम प्लेटों की सतह का खुरदरापन Ra 0.4, Ra 0.2 या इससे भी कम (नैनोस्केल दर्पण सतह) पर सटीक रूप से नियंत्रित किया जा सकता है। यह बेहद कम खुरदरापन सूक्ष्म स्तर पर "जाल" और "गड्ढों" को खत्म कर देता है। रासायनिक संक्षारणरोधी अनुप्रयोगों में, यह धातु की सतह पर संक्षारक मीडिया के स्थानीय जमाव को काफी कम कर देता है, जिससे शुद्ध नाइओबियम प्लेटों के संक्षारण प्रतिरोध में सुधार होता है। जीवन में कई बार सुधार हुआ है।
सतह मशीनिंग तनाव और सूक्ष्म दरारें हटाना
कोल्ड रोलिंग के कारण होने वाले अवशिष्ट तनाव और सूक्ष्म दरारें आमतौर पर बिना पॉलिश की गई नाइओबियम प्लेटों की सतह पर छिपी रहती हैं। अत्यधिक कामकाजी परिस्थितियों (जैसे उच्च आवृत्ति कंपन और गंभीर तापमान परिवर्तन) के तहत, ये सूक्ष्म दरारें आसानी से थकान फ्रैक्चर का स्रोत बन सकती हैं। हमारी इलेक्ट्रोपॉलिशिंग और रासायनिक पॉलिशिंग प्रक्रियाएं "तनाव मुक्त प्रसंस्करण" से संबंधित हैं, जो अवशिष्ट तनाव वाली संशोधित परत को प्रभावी ढंग से हटा सकती हैं और सतह जाली दोषों की मरम्मत कर सकती हैं। यह पॉलिश किए गए शुद्ध नाइओबियम प्लेट की यांत्रिक थकान शक्ति में उल्लेखनीय रूप से सुधार करता है, जिससे एयरोस्पेस और गहरे समुद्र अन्वेषण उपकरणों में सामग्री की दीर्घकालिक स्थिरता सुनिश्चित होती है।
उत्कृष्ट रेडियो फ्रीक्वेंसी (आरएफ) सुपरकंडक्टिंग प्रदर्शन अनुकूलन
सुपरकंडक्टिंग रेडियो फ्रीक्वेंसी (एसआरएफ) गुहाओं के निर्माण में, जैसे कि कण त्वरक में उपयोग किया जाता है, नाइओबियम सामग्री की आंतरिक शुद्धता महत्वपूर्ण है, लेकिन सतह खत्म एक निर्णायक कारक है। छोटे सतह उभार मजबूत विद्युत चुम्बकीय क्षेत्रों के तहत "क्षेत्र उत्सर्जन" प्रभाव को जन्म देंगे, जिससे ऊर्जा हानि और थर्मल पलायन होगा। हमारी गहन पॉलिशिंग प्रक्रिया इन सूक्ष्म उभारों को पूरी तरह से सुचारू कर सकती है, सुपरकंडक्टिंग गुहाओं के लिए एक अत्यंत चिकनी आंतरिक सतह प्रदान करती है, क्यू मान (गुणवत्ता कारक) को काफी बढ़ाती है, और सतह प्रतिरोध को कम करती है, जिससे यह वैश्विक उच्च ऊर्जा भौतिकी अनुसंधान संस्थानों के लिए एक आदर्श विकल्प बन जाता है।
कोटिंग आसंजन और फिल्म बनाने की गुणवत्ता में सुधार करें
जब पॉलिश शुद्ध नाइओबियम प्लेट का उपयोग वैक्यूम मैग्नेट्रोन स्पटरिंग के लिए एक लक्ष्य के रूप में किया जाता है, तो इसकी घनी और चिकनी पॉलिश सतह यह सुनिश्चित कर सकती है कि स्पटरिंग के दौरान लक्ष्य का विद्युत क्षेत्र वितरण अत्यधिक समान है। यह न केवल "आर्किंग" घटना की घटना को प्रभावी ढंग से रोकता है, बल्कि थूक वाली फिल्म की घनत्व और एकरूपता में भी काफी सुधार करता है, कण पीढ़ी को कम करता है, और सेमीकंडक्टर और ऑप्टिकल कोटिंग ग्राहकों के लिए उच्च उपज लाता है।
उत्पाद अनुप्रयोग
सुपरकंडक्टिंग रेडियो फ़्रीक्वेंसी कैविटीज़
शुद्ध नाइओबियम उच्च ऊर्जा भौतिकी के बड़े वैज्ञानिक उपकरणों, जैसे लार्ज हैड्रॉन कोलाइडर और सिंक्रोट्रॉन विकिरण प्रकाश स्रोतों में सुपरकंडक्टिंग गुहाओं के निर्माण के लिए सबसे अच्छी सामग्री है। यहां पॉलिश किए गए शुद्ध नाइओबियम प्लेटों की आवश्यकता न केवल उच्च शुद्धता (आरआरआर मूल्य> 300) है, बल्कि सतह को निर्दोष दर्पण स्थिति तक पहुंचने की भी आवश्यकता है। केवल शुद्ध नाइओबियम प्लेटें जिन्हें उच्च परिशुद्धता के साथ इलेक्ट्रोपॉलिश किया गया है, यह सुनिश्चित कर सकती हैं कि सतह के माइक्रोवेव प्रतिरोध को सुपरकंडक्टिंग अवस्था में पूर्ण शून्य (2K) के करीब कम किया जाए, जिससे इलेक्ट्रॉनों के क्षेत्र उत्सर्जन के कारण होने वाली सुपरकंडक्टिंग स्थिति के पतन को रोका जा सके।
चिकित्सा प्रत्यारोपण और उच्च स्तरीय सर्जिकल उपकरण
शुद्ध नाइओबियम में उत्कृष्ट जैव अनुकूलता होती है और इसमें निकल और कोबाल्ट जैसे तत्व नहीं होते हैं जो मानव शरीर के लिए हानिकारक होते हैं। चिकित्सा अनुप्रयोगों में, सतह पॉलिशिंग प्रक्रिया एक निर्णायक भूमिका निभाती है। सटीक पॉलिशिंग के बाद शुद्ध नाइओबियम प्लेट की सतह पर न केवल अच्छा दृश्य प्रभाव पड़ता है, बल्कि इससे भी महत्वपूर्ण बात यह है कि यह एक घनी निष्क्रियता परत बनाती है, जो धातु की सतह पर प्रोटीन और बैक्टीरिया के आसंजन को प्रभावी ढंग से रोकती है। यह बेहद कम बायोआसंजन पेसमेकर शेल और पॉलिश किए गए शुद्ध नाइओबियम से बने कृत्रिम हड्डी स्प्लिंट को सख्त कीटाणुशोधन और नसबंदी से गुजरना आसान बनाता है, और आरोपण के बाद अस्वीकृति और संक्रमण के जोखिम को कम करता है।
सेमीकंडक्टर कोटिंग और गहरे पराबैंगनी ऑप्टिकल लक्ष्य
पीवीडी प्रक्रिया में, पॉलिश किए गए शुद्ध नाइओबियम प्लेटों को व्यापक रूप से स्पटरिंग लक्ष्य के रूप में संसाधित किया जाता है। पॉलिशिंग प्रक्रिया सतह पर दूषित परत और ढीली संरचना को हटा देती है, जिससे प्लाज्मा के लक्ष्य सतह पर बमबारी करने पर एक समान छीलन सुनिश्चित हो जाती है। 5जी संचार फिल्टर, ऑप्टिकल फाइबर संचार फिल्मों और एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स के लिए, पॉलिश किए गए शुद्ध नाइओबियम लक्ष्य उच्च शुद्धता, उच्च संप्रेषण नाइओबियम ऑक्साइड फिल्में बना सकते हैं, जो अर्धचालक और ऑप्टिकल उपकरणों की प्रदर्शन स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए आधारशिला हैं।
उच्च-विनिर्देश रासायनिक प्रसंस्करण उपकरण
अत्यधिक संक्षारक वातावरण जैसे कि मजबूत एसिड (जैसे नाइट्रिक एसिड और हाइड्रोक्लोरिक एसिड) और तरल धातुओं में, साधारण स्टेनलेस स्टील या टाइटेनियम मिश्र धातु अक्षम हैं। शुद्ध नाइओबियम प्लेट को पॉलिश करना न केवल इसकी रासायनिक जड़ता पर निर्भर करता है, बल्कि पॉलिश करने के बाद बनी एक समान छिद्र मुक्त सतह पर भी निर्भर करता है। दोष मुक्त पॉलिश सतह संक्षारक तरल पदार्थों को प्रवेश और निवास के लिए "एंकर बिंदु" ढूंढने से रोकती है, और विशेष हीट एक्सचेंजर्स, रिएक्टर लाइनर और उच्च शुद्धता वाले रासायनिक भंडारण कंटेनरों में व्यापक रूप से उपयोग की जाती है।
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हमारे पास परिपक्व बैच आपूर्ति क्षमताएं हैं, और हम छोटे और मध्यम आकार के उद्यमों के लिए छोटे बैच खरीद सकते हैं, और बड़े उद्यमों की बड़े पैमाने पर ऑर्डर आवश्यकताओं के लिए खरीद सकते हैं।
इसलिए यदि आपको पॉलिश की हुई शुद्ध नाइओबियम प्लेट की आवश्यकता है, तो नवीनतम कोटेशन प्राप्त करने के लिए अभी हमसे संपर्क करें।
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